(도쿄= 경수현 특파원 = 일본 정부가 반도체 산업 부활을 꾀하는 가운데 일본 화학 기업 신에쓰화학이 56년 만에 자국에 제조 거점을 신설, 반도체 제조용 포토레지스트(감광재) 소재를 생산하기로 했다.

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9일 니혼게이자이신문에 따르면 신에쓰화학은 군마현 이세사키시에 약 15만㎡의 용지를 이미 취득했다.

새 제조거점 마련을 위한 투자액은 약 830억엔(7천400억원)으로, 2026년 완공 예정이다.

신에쓰화학이 일본 내에 제조 거점을 신설하는 것은 1970년 이바라키현 가시마공장 이후 처음이다.

포토레지스트는 반도체 웨이퍼에 회로를 그리는 노광공정에 사용되는 소재로, 신에쓰화학 세계 시장 점유율은 약 20%다.

이 회사는 현재 포토레지스트를 일본 니가타현 공장과 대만 공장 등에서 생산하고 있다.

군마현에 신설할 거점에서는 한국과 미국 등에 대한 수출분 생산과 함께 연구 개발도 이뤄질 것으로 전해졌다.

한편, 또 다른 일본 화학업체인 미쓰이화학은 반도체 회로 원판 보호용 페리클을 생산하는 야마구치현 공장에 50∼90억엔을 투자해 차세대 제품을 양산할 계획이라고 닛케이는 보도했다.