[후지필름홀딩스 홈페이지 캡처=]

(도쿄= 박성진 특파원 = 일본 후지필름이 차세대 반도체 생산에 필요한 반도체 소재 개발과 생산을 위한 공장을 내년까지 일본에 건설한다고 니혼게이자이신문(닛케이)이 30일 보도했다.

후지필름은 시즈오카현에 있는 시즈오카 공장에 약 130억엔(약 1천200억원)을 투입해 내년 가을까지 새 건물을 지을 계획이다.

후지필름은 이 공장에서 1나노(㎚·10억분의 1m)대 첨단 반도체 생산에 사용할 수 있는 반도체 소재 포토레지스트(감광제)의 최첨단 제품을 개발하고 시험 제작도 한다.

고객사가 1나노대 반도체 양산에 들어가면 이 공장에서 개발한 생산 기술을 국내외 다른 기존 공장에 전파해 본격 생산에 나설 계획이다.

파운드리(반도체 위탁생산) 업계 1위인 대만 TSMC는 현재 2나노 제품의 양산을 준비하고 있으며 2026년에는 이보다 더 나아가 1.6나노 제품 생산도 계획하고 있다.

일본 반도체 기업 라피더스도 내년에 2나노 제품을 시험 생산하고, 2027년부터 양산한다는 목표를 세워둔 상태다.