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(대전= 정찬욱 기자 = 한국전자통신연구원(ETRI)이 150나노 질화갈륨(GaN) 반도체 기술 국산화 파운드리(반도체 위탁 생산) 시범서비스를 본격 시작한다.

국내 기업은 그동안 질화갈륨 반도체 칩 설계 및 양산 환경이 부족해 전량 수입에 의존했다.

ETRI는 기업에 칩 설계 키트를 제공하고 칩 제작을 도울 예정이다.

ETRI는 4일 원내에서 산·학·연 관계자가 참석한 가운데 개발한 세계적 수준의 150나노(0.15um) 질화갈륨 마이크로파집적회로(MMIC) 설계 키트(PDK) 공개발표회를 했다.

질화갈륨 반도체는 차세대 반도체 핵심 소재·소자로, 최첨단 스텔스기의 에이사(AESA) 레이더, 6G통신 등에 사용된다.

150나노 GaN 반도체는 전 세계에서 오직 6개 기관에서만 파운드리 생산이 가능하다.

ETRI는 개발 성과를 바탕으로 K-방산 등 반도체 관련 기업을 적극적으로 지원할 예정이다.

기업에 시범서비스를 통해 무료로 본격 지원을 시작한다. 향후 반도체 산업 활성화와 자립화에 큰 기회가 될 것으로 ETRI는 예측했다.

ETRI가 국내 기업과 함께 개발한 GaN 고출력 소자 부품은 국내 차세대 구축함인 이지스함 레이더의 체계 적합성 시험을 통과한 상태다.

방승찬 ETRI 원장은 "차세대 이동통신 및 레이다 등에 쓰이는 고출력 GaN 소자 국산화를 이룸으로써 수출 규제 대응 및 국제기술 경쟁에도 큰 도움이 될 전망"이라고 말했다.